一种全自动硅片清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开一种全自动硅片清洗装置，包括上料机构、传送带、除静电通道、辅助下料机构、超声波清洗机构、烘干通道。本实用新型结构新颖，造价成本低，自动化程度高，硅片依次经过上料机构、传送带、除静电通道、辅助下料机构、超声波清洗机构、烘干通道，实现了硅片自动上料、自动化清洗、自动化烘干以及下料，操作简单方便，大大地缩短了生产时间，提高了工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种全自动硅片清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921135674.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-19
授权号 ：
CN210449959U
授权日 ：
2020-05-05
发明人 ：
侯继伟
申请人 ：
浙江科技学院
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区留和路318号
代理机构 ：
淮安睿合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵霎
优先权 ：
CN201921135674.7
主分类号 ：
B08B1/00
IPC分类号 ：
B08B1/00 B08B1/02 B08B3/12 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具，刷子或类似工具的清洁方法
法律状态
2020-05-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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