一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置
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摘要
本实用新型公开了一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置，包括清洗槽和碱液循环装置，所述清洗槽上设置有进液口和出液口，所述进液口和所述出液口分别与所述碱液循环装置连接，碱液循环装置包括循环泵、线式加热器、气液混合器和臭氧发生器；本实用新型通过设计碱液循环装置，使内槽的碱液中生成大量臭氧气泡，臭氧气泡与碱液作用产生大量氧化能力更强的羟基自由基(·OH)、氧化羟基自由基(·O2H)等基团，使内槽中硅片表面产生大量的气、液、固三相反应界面，解决了臭氧和自由基在碱性溶液中分解速度太快，无法到达硅片表面与有机沾污进行反应的难题，具有一定实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922492146.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211150580U
授权日 ：
2020-07-31
发明人 ：
杜俊霖刘正新孟凡英孙林
申请人 ：
中威新能源（成都）有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市双流西南航空港经济开发区内
代理机构 ：
成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李双
优先权 ：
CN201922492146.3
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 H01L21/67 B08B3/10
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法律状态
2020-07-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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