一种含有臭氧的喷淋式清洗硅片的装置

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摘要

本实用新型公开了一种含有臭氧的喷淋式清洗硅片的装置，包括清洗槽、碱液循环装置和臭氧发生器，所述清洗槽上设置有进液口和出液口，所述进液口和所述出液口分别与所述液体循环装置连接；本实用新型通过设计液体循环装置，在充满臭氧气体的清洗槽中喷淋酸性或碱性溶液，使硅片表面产生大量的气、液、固三相反应界面，解决了臭氧和自由基在碱性溶液中分解速度太快，无法到达硅片表面与有机沾污进行反应的难题。在充满臭氧气体的清洗槽中喷淋氢氟酸溶液，使硅片表面的臭氧可以达到很高的浓度，提高臭氧CP的腐蚀速率，缩短工艺时间，提高产能。

基本信息

专利标题：

一种含有臭氧的喷淋式清洗硅片的装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922477727.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-31

授权号：

CN211914785U

授权日：

2020-11-13

发明人：

杜俊霖孙林张丽平石建华

申请人：

中威新能源（成都）有限公司

申请人地址：

四川省成都市双流西南航空港经济开发区内

代理机构：

成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

李双

优先权：

CN201922477727.X

主分类号：

B08B3/08

IPC分类号：

B08B3/08 B08B3/02 B08B3/10 H01L21/67