一种半导体结构及其形成方法、半导体器件、芯片
授权
摘要
本公开提供了一种半导体结构及其形成方法、半导体器件、芯片,该半导体结构,包括焊盘以及设置于焊盘旁的立式挡坝结构;一种半导体器件,包括本公开的一个或多个实施例的半导体结构;一种芯片,包括本公开的一个或多个实施例的半导体器件;一种半导体结构的形成方法,包括如下的步骤:提供虚拟有源区;在虚拟有源区的上方进行的位线形成工艺、外围接触件制作工艺、焊盘制作工艺中的至少一个工艺中,形成设置于焊盘周围的立式挡坝结构。与现有技术相比,本公开创新地在焊盘旁设置立式挡坝结构,以降低焊盘受到的电气应力和环境应力,避免水分渗透到焊盘中,降低膜裂的可能性,进而提高半导体器件的可靠性和信赖度。
基本信息
专利标题 :
一种半导体结构及其形成方法、半导体器件、芯片
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111430324A
申请号 :
CN202010276330.9
公开(公告)日 :
2020-07-17
申请日 :
2020-04-09
授权号 :
CN111430324B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
裴俊值杨涛高建峰殷华湘
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
付婧
优先权 :
CN202010276330.9
主分类号 :
H01L23/488
IPC分类号 :
H01L23/488 H01L21/60 H01L23/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L23/00
半导体或其他固态器件的零部件
H01L23/48
用于向或自处于工作中的固态物体通电的装置,例如引线或接线端装置
H01L23/488
由焊接或黏结结构组成
法律状态
2022-04-22 :
授权
2020-08-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 23/488
申请日 : 20200409
申请日 : 20200409
2020-07-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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