排出流动调节部及包括其的等离子处理装置
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摘要
本发明涉及一种包括排出流动调节部的等离子处理装置，所述排出流动调节部位于作为用等离子对基板进行处理的空间的腔室来调节对所述基板进行处理的等离子的排出流动，其中，所述排出流动调节部为形成有向垂直方向贯通的孔的圆筒形状，且沿周向形成有作为向水平方向贯通由下端向上部隔开的位置的孔的排出部。
基本信息
专利标题 ：
排出流动调节部及包括其的等离子处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111863577A
申请号 ：
CN202010286941.1
公开（公告）日 ：
2020-10-30
申请日 ：
2020-04-13
授权号 ：
CN111863577B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
金亨源金成旭蔡熙星郑熙锡
申请人 ：
吉佳蓝科技股份有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
金鲜英
优先权 ：
CN202010286941.1
主分类号 ：
H01J37/305
IPC分类号 ：
H01J37/305 H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/305
用于浇铸、熔化、蒸发或浸蚀的
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-11-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/305
申请日 : 20200413
申请日 : 20200413
2020-10-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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