基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备
授权
摘要
本发明公开了一种基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备，包括：加热炉；流化管，流化管安装于所述加热炉的炉腔内，流化管由下至上间隔设置有下盖板、一级流化床、二级流化床和上盖板，下盖板与一级流化床之间具有流化气腔，一级流化床与所述二级流化床之间具有一级流化腔，所述二级流化床与所述上盖板之间具有二级流化腔；流化气体源通过所述流化气体管道与所述流化气腔相连通，所述第一前驱体管道将第一前驱体通入所述一级流化腔；第二前驱体管道将第二前驱体通入所述二级流化腔；尾气管道的一端与所述二级流化腔相连通，其另一端与尾气处理系统相连。其解决了粉体颗粒包覆过程中前驱体易于孔口沉积、粉体流态化不均匀的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113564561A
申请号 ：
CN202010357123.6
公开（公告）日 ：
2021-10-29
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN113564561B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
刘马林刘荣正邵友林刘兵常家兴
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园清华大学
代理机构 ：
北京悦和知识产权代理有限公司
代理人 ：
司丽春
优先权 ：
CN202010357123.6
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/442 C23C16/455 C23C16/54 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2021-11-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20200429
申请日 : 20200429
2021-10-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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