一种六硼化镧复合碳薄膜的沉积方法及耐腐蚀应用
授权
摘要
本发明涉及真空镀膜和氯碱化工技术领域，具体涉及一种六硼化镧复合碳薄膜的沉积方法及耐腐蚀应用，以阀门密封件为基体，采用六硼化镧作为靶材，甲烷或者乙炔作为碳源，沉积六硼化镧复合碳薄膜；沉积过程中六硼化镧会分解并和甲烷或者乙炔反应，生成碳化硼和镧硼碳纳米材料，弥散在非晶碳网络中，提高碳薄膜的承载性能和耐腐蚀性能。与现有技术相比较，本发明采用六硼化镧表面注入、梯度渐变非晶纳米晶弥散的方式沉积六硼化镧复合薄膜，提高了结合力、强韧性、耐磨性和耐蚀性能的同时降低了摩擦系数。
基本信息
专利标题 ：
一种六硼化镧复合碳薄膜的沉积方法及耐腐蚀应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111926302A
申请号 ：
CN202010811281.4
公开（公告）日 ：
2020-11-13
申请日 ：
2020-08-13
授权号 ：
CN111926302B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
张斌毛金银贾倩毛春龙陈善俊
申请人 ：
江苏金晟元特种阀门股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市海安市曲塘镇双楼路62号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
史炜炜
优先权 ：
CN202010811281.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-12-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20200813
申请日 : 20200813
2020-11-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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