背照式结构的4H-SiC紫外光电探测器阵列及制备
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摘要

背照式结构的4H‑SiC紫外光电探测器阵列及制备,所述4H‑SiC紫外光电探测器包括从下到上设置的N型金属电极、N+型4H‑SiC衬底、吸收层、本征层;所述本征层通过离子注入的方式形成有多个P+层,用于制备阵列的单个像素点;所述P+层上设有P型金属电极;光从背面的N+型4H‑SiC衬底进行照射,所述N+型4H‑SiC衬底上对应P+层的位置刻蚀有贯穿N+型4H‑SiC衬底的微孔以形成有源区;所述N型金属电极设于N+型4H‑SiC衬底上未开设微孔的位置。一方面从背面刻蚀微孔增加紫外光的吸收,另一方面正面的P型金属电极和背面的N型金属电极恰好可以阻挡可见光的透过,使得硅读出电路不会对可见光产生响应。

基本信息
专利标题 :
背照式结构的4H-SiC紫外光电探测器阵列及制备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112117336A
申请号 :
CN202011005272.2
公开(公告)日 :
2020-12-22
申请日 :
2020-09-22
授权号 :
CN112117336B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
付钊张峰洪荣墩蔡加法陈厦平林鼎渠吴少雄吴正云
申请人 :
厦门大学
申请人地址 :
福建省厦门市思明区思明南路422号
代理机构 :
厦门南强之路专利事务所(普通合伙)
代理人 :
张素斌
优先权 :
CN202011005272.2
主分类号 :
H01L31/0352
IPC分类号 :
H01L31/0352  H01L31/0216  H01L31/0224  H01L31/0232  H01L31/105  H01L23/52  H01L27/144  H01L31/18  B81B1/00  B81C1/00  
法律状态
2022-04-12 :
授权
2021-01-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 31/0352
申请日 : 20200922
2020-12-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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