存储器及其制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种存储器及其制备方法,涉及半导体技术领域,该存储器包括基底,基底设置有控制区,控制区的两侧分别设置有存储区;每个存储区包括若干行第一有源区,每行第一有源区内的各第一接触区连接一条位线;控制区包括若干个第二有源区,每个第二有源区设置有第一栅极以及位于第一栅极两侧的第一源漏区和第二源漏区,控制区内的各第一栅极相互连接构成控制线;在同一个第二有源区内,第一源漏区和第二源漏区各自与对应的一条位线连接。本发明的存储器,通过控制线控制与第一源漏区连接的位线以及与第二源漏区连接的位线是否导通,进而控制每次读操作和写操作时间,使得存储器的存储速度加快,存储器性能提升。

基本信息
专利标题 :
存储器及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114446956A
申请号 :
CN202011221712.8
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-11-05
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
阮吕军昇
申请人 :
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经济开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 :
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 :
张娜
优先权 :
CN202011221712.8
主分类号 :
H01L27/108
IPC分类号 :
H01L27/108  H01L21/8242  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/10
在重复结构中包括有多个独立组件的
H01L27/105
包含场效应组件的
H01L27/108
动态随机存取存储结构的
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/108
申请日 : 20201105
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332