一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程
授权
摘要
本发明公开了一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程，本发明在光刻之前充分、系统地做好准备工作，光刻时便得心应手，可以快速而顺利完成套刻对准。准备工作完成后，光刻机操作时间可以控制在半小时以内，提高了工作效率，也减少了机器的消耗。使用本发明的技术方案，初学者也能较好地完成高难度的套刻对准。使用本技术方案在普通国产曝光机JKG‑2A进行套刻也可以实现与进口光刻机ABM.Inc.Mask Aligner相同的套刻结果，使用本技术进行微流控加工的套刻对准，对准偏差小于5微米，然而对准精度要求为只要能连通高低通道即可，完全满足微流控芯片加工使用。
基本信息
专利标题 ：
一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112346308A
申请号 ：
CN202011243536.8
公开（公告）日 ：
2021-02-09
申请日 ：
2020-11-10
授权号 ：
CN112346308B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
赵幸福孙逸凡印唐臣朱海燕张迎洁
申请人 ：
南通大学
申请人地址 ：
江苏省南通市啬园路9号
代理机构 ：
南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
许洁
优先权 ：
CN202011243536.8
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2021-03-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20201110
申请日 : 20201110
2021-02-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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