晶圆封装单片湿法去胶机
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种晶圆封装单片湿法去胶机,包括安装在机架上的腔体和底板,所述腔体设置在底板上,所述底板上设置有若干排液口,其特征在于:所述底板上设有工艺转台,所述工艺转台外的底板上设有供液转臂,所述供液转臂包括可升降旋转安装柱、套管、悬臂和喷头,所述套管套设在可升降旋转安装柱上,所述套管的上端设置悬臂,所述悬臂的末端通过喷头安装块安装有喷头,所述喷头包括喷头本体、分流片、分流座和喷头基座,所述喷头本体与分流座配合连接,所述分流片设置在喷头本体与分流座之间,分流座与喷头基座紧配合。本实用新型设计合理、体积小巧,清洗效果好,清洗速度快、清洁度高,同时安全可靠,对零部件表面无损伤,提高了产品性能。

基本信息
专利标题 :
晶圆封装单片湿法去胶机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020622397.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-23
授权号 :
CN211629048U
授权日 :
2020-10-02
发明人 :
柳直郭勇夏志云
申请人 :
苏州光宝科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区双马路2号星华产业园14号楼1层
代理机构 :
苏州新知行知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
郑丽玲
优先权 :
CN202020622397.9
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20200423
授权公告日 : 20201002
终止日期 : 20210423
2020-10-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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