一种溅射镀膜上料口
授权
摘要
为了解决真空室的上料口的自动化程度低且密封性能较差的问题,本实用新型提出一种溅射镀膜上料口,包括上料门1,活动压件2、传动装置3,其特征在于:所述上料门1的上端和下端均设有传动装置3,所述传动装置3包括齿轮31、齿条32和气缸33,气缸33上设有推杆34,推杆34的一端与气缸33固定连接,齿条32的带齿面与齿轮31啮合,上下传动装置3的齿轮31中心通过支撑杆4连接固定,支撑杆4上设有多个间隔相同的活动压件2,通过气缸33推动齿条32向前或者向后运动从而带动齿轮31运转来实现齿轮31轴上的上料门1的打开或者闭合,并且上料门1上设有多个间隔相同的活动压件2,使得上料门1开关更加简便,且闭合的时候压紧度更高。
基本信息
专利标题 :
一种溅射镀膜上料口
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020636339.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-24
授权号 :
CN212375366U
授权日 :
2021-01-19
发明人 :
韩阳
申请人 :
苏州锐世讯光学科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城区黄桥街道大庄村大民路(东兴模具有限公司南侧200米)
代理机构 :
苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
赵成磊
优先权 :
CN202020636339.1
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2021-01-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载