一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，包括依次连接的进料门、材料蒸发池、材料裂解池、镀膜腔体，镀膜腔体依次通过管道连接冷阱、机械真空泵，镀膜腔体与冷阱之间的管道上连接慢开截止阀；在镀膜腔体和冷阱之间增加了可控慢开截止阀，将镀膜腔体抽真空的初始抽速降低，从而有效地避免了镀膜腔体压力陡然下降而造成的湿气涡旋，进而能够避免被镀湿度敏感器件被湿气涡流损坏的问题；通过真空计的反馈信号闭环控制镀膜腔体抽真空和破真空的整个过程，从而有利于实现各个阶段真空度和抽速的自动化控制，管道上缠绕的加热带控制管道温度，有效地避免出现抽真空通道被蒸镀材料堵塞的现象。
基本信息
专利标题 ：
一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020664903.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212051642U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
段明浩张哲白新愿
申请人 ：
西安瀚维光电科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区上林苑一路15号
代理机构 ：
西安弘理专利事务所
代理人 ：
韩玙
优先权 ：
CN202020664903.0
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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