大硅片研磨液回收系统装置

授权

摘要

本实用新型涉及硅片研磨抛光技术领域，特别涉及大硅片研磨液回收系统装置，包括依次管道连接的初级过滤器、缓冲罐、输送罐和输送过滤器，所述初级过滤器和所述输送过滤器均与研磨液供应系统管道连接，所述初级过滤器、缓冲罐和输送罐均与废液排放系统管道连接。与现有技术相比，本发明所提供的大硅片研磨液回收系统装置，系统管路简单，容易清洁保养，研磨废液回收利用率高，不仅高效且快速地过滤清理研磨废液中的杂质，还可以实时监控其品质变化，从而对研磨废液进行高效循环利用，降低研磨工序成本成本，避免浪费。

基本信息

专利标题：

大硅片研磨液回收系统装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021058804.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-10

授权号：

CN212396056U

授权日：

2021-01-26

发明人：

吴思韵施文俊邢广兴

申请人：

深圳融科科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市龙岗区宝龙街道宝荷大道76号智慧家园B座1801

代理机构：

重庆百润洪知识产权代理有限公司

代理人：

沈锋

优先权：

CN202021058804.4

主分类号：

B01D29/52

IPC分类号：

B01D29/52 B01D29/11