一种用于半导体元件加工的清洗架
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于半导体元件加工的清洗架，包括清洗腔，所述清洗腔为密闭箱式空腔结构，且在清洗腔的正面上开设有开合门，所述清洗腔的内部固定设置有清洗架本体，所述清洗架本体上设置有四边形固定架，所述四边形固定架上设置有对半导体元件进行固定夹紧块一和夹紧块二，所述清洗腔位于四边形固定架上下两侧沿水平方向平铺若干根上冲洗管和下冲洗管，将夹紧块一和夹紧块二的C型卡槽沿纵向贯穿设置，使夹紧块一和夹紧块二通过一次装夹实现多块半导体元件的清洗，极大的提高了清洗效率，使该半导体元件加工清洗架实用性强。
基本信息
专利标题 ：
一种用于半导体元件加工的清洗架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021217306.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-28
授权号 ：
CN212759969U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
蒋振荣周海生
申请人 ：
安徽富信半导体科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省马鞍山市郑蒲港新区金蒲电子信息产业园1＃东侧
代理机构 ：
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩立峰
优先权 ：
CN202021217306.X
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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