托盘机构及蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型涉及蒸镀技术领域,公开了一种托盘机构及蒸镀设备,该托盘机构包括托盘本体；滚轮，滚轮用于带动托盘沿第一方向移动；收集装置，收集装置与托盘本体连接，收集装置包括第一收集部，第一收集部在支撑面所在平面的正投影完全覆盖滚轮在支撑面所在平面的正投影。当利用In line方式进行蒸镀时，颗粒物在自身重力的作用下会向位于滚轮下方的第一收集部移动，最终落在第一收集部上，大大减少了颗粒物附着至玻璃基板表面的现象，有效减少了OLED面板出现暗点的情况。另外，由于收集装置与托盘本体连接，则当托盘本体移动时，收集装置也会随之移动，能够做到对颗粒物的实时收集，进一步保障颗粒物收集的效率。
基本信息
专利标题 ：
托盘机构及蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021383566.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-14
授权号 ：
CN212983040U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
李浩永曹景博蔡瑞芝李灿吴相韩冰融
申请人 ：
合肥欣奕华智能机器有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区龙子湖路与荆山路交口西南
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
李琴
优先权 ：
CN202021383566.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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