本实用新型公开一种输送机构及蒸镀设备，其中的输送机构包括若干滚轮和若干吸铁块，相邻两个滚轮之间设有至少一个吸铁块，吸铁块具有顶面和至少一个吸附面，顶面无磁性，吸附面具有磁性，吸附面的一侧与顶面连接，吸附面的另一侧靠近吸铁块的下部，顶面与吸附面之间的夹角为钝角。吸铁块的顶面是距离玻璃基板最近的面且是水平设置的，吸铁块的顶面由于不具有磁性，铁屑不会在吸铁块的顶面堆积，铁屑只会被吸附在与顶面相邻的吸附面上，而吸附面位于顶面下方且是倾斜的，即使吸附面上吸满了铁屑，也不会接触到玻璃基板，从而避免了玻璃基板的边缘粘附到铁屑，防止玻璃基板因粘附铁屑而发生质量问题，提高了良品率。