一种真空镀膜室的进料结构
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摘要
本实用新型提供了一种真空镀膜室的进料结构，包括镀膜室以及用于给镀膜室输送镀膜材料的出料管；镀膜室的腔壁上固定有将其贯穿的进料管；出料管靠近进料管的一端设有半球形的对接头，使两者可以多角度灵活对位，安装方便；进料管内插接有朝镀膜室内延伸的延长管，利用延长管将镀膜材料导入镀膜室内腔，有效防止镀膜材料在入口处堆积造成泄漏。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜室的进料结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021599322.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-05
授权号 ：
CN212983044U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
渠艳良李雷
申请人 ：
派珂纳米科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室
代理机构 ：
苏州创策知识产权代理有限公司
代理人 ：
范圆圆
优先权 ：
CN202021599322.X
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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