一种蚀刻设备的反应槽装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种蚀刻设备的反应槽装置，包括：进液管道、反应腔和排液管道；反应腔的顶部设有密封盖；反应腔内部设有温度传感器、液位传感器、浓度检测仪和加热装置；反应腔内部水平设有两个以上的滚轴；反应腔的侧边设有进液阀和排液阀；进液管道的一端通过进液阀与反应腔连接，另一端通过水泵与储液箱连接；排液管道的一端通过排液阀与反应腔连接，另一端与废液箱连接；温度传感器、液位传感器、浓度检测仪、加热装置、滚轴、进液阀、排液阀和水泵分别与控制台电连接。本实用新型能够实时获取温度信息和浓度信息，并自动加热或更换新的蚀刻液，从而保证蚀刻液的温度和浓度处于预设范围内，有效提升了蚀刻效率，保障了蚀刻效果。
基本信息
专利标题 ：
一种蚀刻设备的反应槽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021721517.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN212800546U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
顾伟葛立梅
申请人 ：
茂科电子科技（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道沙四东宝工业区p栋
代理机构 ：
深圳市智胜联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
齐文剑
优先权 ：
CN202021721517.7
主分类号 ：
C23F1/08
IPC分类号 ：
C23F1/08 C23F1/02 H05K3/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F1/00
金属材料的化学法蚀刻
C23F1/08
装置，如照相印刷制版装置
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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