一种圆片盒清洗烘干的载体装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种圆片盒清洗烘干的载体装置，包括底框，所述底框两侧框壁上方分别对应设置固定杆，固定杆为拱形杆，所述固定杆底部垂直安装在底框两侧，两侧固定杆外侧均设置挡板，挡板两侧沿底框前部框壁方向设置支撑板，支撑板垂直安装在挡板上，所述两侧挡板内壁设置若干组支撑杆，支撑杆相对方向侧壁均对应设置若干等距离分布的导轨槽，本实用新型提供一种圆片盒清洗烘干的载体装置，工作时，将圆晶片盒放置在支撑杆侧壁的导轨槽内，通过支撑杆对导轨槽内的圆晶片盒进行稳固，利用驱动电机传动，带动旋转轴转动，进行偏心运动，实现圆晶片盒在清洗烘干过程中处于运动状态，清洗不留死角，干燥充分，提升圆晶片盒清洗工作的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种圆片盒清洗烘干的载体装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021749704.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
CN212695129U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
程玉学
申请人 ：
三河市致欣科技有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市三河市燕郊开发区燕昌路西侧欧森工业园院内A1厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021749704.6
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673 B08B13/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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