一种化学气相沉积前驱体输运系统
授权
摘要
本实用新型属于化学气相沉积领域,公开一种化学气相沉积前驱体输运系统。包括温度控制装置,进料瓶内置于温度控制装置中,进料瓶顶部设有进料口、进气口、抽气口、出料口,进料口与储料瓶连接,进气口与储气瓶连接,抽气口与真空泵连接,出料口连接有出料管,出料管一端插入进料瓶底部、另一端连接蠕动泵的进口,蠕动泵的出口连接混气室;混气室顶部连接有工艺气体管和输送管,工艺气体管的一端伸入混气室底部、另一端连接至工艺气体罐,输送管连至化学气相沉积室;储料瓶的底部高于进料瓶的顶部,进料瓶和混气室顶部各连有第一、第二压力表。本实用新型中进料瓶与混气室存在压差,通过蠕动泵实现对流体流速的控制,对前驱体输运量控制较为稳定。
基本信息
专利标题 :
一种化学气相沉积前驱体输运系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021942071.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-08
授权号 :
CN213357739U
授权日 :
2021-06-04
发明人 :
张东生李江涛吴恒姚栋嘉刘喜宗王亚辉牛利伟
申请人 :
巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司
申请人地址 :
河南省郑州市巩义市站街镇胡坡村
代理机构 :
郑州豫开专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张智伟
优先权 :
CN202021942071.0
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455 C23C16/52
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-06-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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