一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装
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摘要
本实用新型属于化学气相沉积设备技术领域，公开一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装。包括圆环状卡盘、支撑件；圆环状卡盘的数量为两个，圆环状卡盘的圆环上均匀设有至少三个固定孔或者圆环状卡盘的圆环均匀径向向外延伸有至少三个凸块并且每个凸块上开设一固定孔；支撑件的数量与一圆环状卡盘上的固定孔的数量对应，支撑件包括底座，底座顶面垂直向上固定连接有支撑柱，支撑柱的两端为外螺纹柱、中间段为光滑柱，光滑柱的侧面均匀开设有放置槽；两个圆环状卡盘分别通过固定孔螺纹连接在支撑柱的两端外螺纹柱上。本实用新型可使化学气相沉积后的圆盘基片表面涂层厚度均匀，可支撑多个圆盘基片进行化学气相沉积，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于化学气相沉积圆盘基片的支撑工装
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021942106.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN213596395U
授权日 ：
2021-07-02
发明人 ：
李江涛张东生吴恒姚栋嘉刘喜宗杨超牛利伟张相国
申请人 ：
巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市巩义市站街镇胡坡村
代理机构 ：
郑州豫开专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张智伟
优先权 ：
CN202021942106.0
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-07-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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