一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装
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摘要
本实用新型属于化学气相沉积设备技术领域，公开一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装。包括托架和支座；托架包括两个L型板，L型板的竖板和横板的两自由端的边棱上均匀开设有凹槽；支座包括两个支撑架，支撑架呈U型或H型；两个支撑架前后对称间隔布置，两个L型板分别左右对称连接在两个支撑架之间。本实用新型工装结构设计合理，使用该工装将圆盘基片垂直放置于化学气相沉积炉内，对沉积室内流场影响小，使用工装沉积后的产品涂层包覆率高等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种用于支撑化学气相沉积圆盘基片的工装
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021943634.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN213357743U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
李江涛张东生吴恒姚栋嘉刘喜宗杨超王亚辉张相国王琰
申请人 ：
巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市巩义市站街镇胡坡村
代理机构 ：
郑州豫开专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张智伟
优先权 ：
CN202021943634.8
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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