一种利用紫外光辅助裂解的双组分聚对二甲苯气相沉积涂层制备...
授权
摘要
本实用新型公开了一种利用紫外光辅助裂解的双组分聚对二甲苯气相沉积涂层制备装置，属于涂层制备技术领域；包括沉积舱、原料蒸发舱、80nmUC紫外光源、石英玻璃窗、裂解室和真空泵；沉积舱与真空泵连通，沉积舱连接两个裂解室，裂解室设有石英玻璃窗，石英玻璃窗外设有80nmUC紫外光源，每个裂解室连接一个原料蒸发舱；本实用新型通过紫外光源降低裂解温度，通过调整加热温度以及载气混合方法控制舱内前驱体复合沉积方式，实现沉积物的改性。
基本信息
专利标题 ：
一种利用紫外光辅助裂解的双组分聚对二甲苯气相沉积涂层制备装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021943366.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
CN212834017U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
贾宝栋苍久娜王佳袁双宏
申请人 ：
齐齐哈尔市宝宏科技有限公司
申请人地址 ：
黑龙江省齐齐哈尔市龙沙区喜庆路1号
代理机构 ：
齐齐哈尔鹤城专利代理有限公司
代理人 ：
叶仲刚
优先权 ：
CN202021943366.X
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/448
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212834017U.PDF
PDF下载
