本实用新型公开了一种半导体硅环刻蚀洗净装置，包括槽体，所述槽体的顶端扣合有顶盖，所述顶盖的底面固定装配有连接杆，所述连接杆的外壁套接有套环，所述套环的外壁固定装配有挂钩，所述槽体的内壁底端固定装配有托盘。通过托盘和通气槽的配合，将导管与气泵连接到一起，使用气泵通过导管和单向阀向通气槽的内部通气，气体通过导管和喷嘴喷出，能够增加槽体内部蚀刻液的流通，增加清洗的效果，通过卡块和球体的配合，通过导管和喷嘴的配合，根据半导体硅环的直径大小，转动导管，导管转动的过程中，带动球体在两个卡块之间转动，此时凸块卡接到凹槽的内部，调整喷嘴的位置，将喷嘴的转动至靠近半导体硅环，灵活性能强，适用范围广泛。