用于集成电路的基于神经网络的掩模综合
公开
摘要
系统使用诸如神经网络的机器学习模型，以用于从电路设计生成掩模设计。机器学习模型具有输入和输出，输入和输出被定位到电路设计的较小区域。机器学习模型将描述在位置的邻域中的电路设计的特征作为输入，并且生成偏移距离作为输出。系统使用偏移距离来生成掩模设计的特征，例如对应于电路设计多边形的主要特征或辅助特征。系统可以使用偏移距离以通过修改电路设计多边形进行目标优化，来获得具有改进的可制造性的电路设计多边形。
基本信息
专利标题 ：
用于集成电路的基于神经网络的掩模综合
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114365042A
申请号 ：
CN202080060002.3
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·C·塞西尔K·胡克M·瓜加尔多
申请人 ：
美商新思科技有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN202080060002.3
主分类号 ：
G03F1/36
IPC分类号 ：
G03F1/36 G03F1/70 G03F7/20 G06F30/392 G06F30/394 G06F30/398 G06N3/04 G06N3/063 G06N3/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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