确定图案的像差灵敏度的方法
实质审查的生效
摘要
本文描述一种用于基于与图案形成设备相关联的像差灵敏度来确定过程窗口限制图案(PWLP)的方法(300)。所述方法包括：P(301)获得(i)与所述图案形成设备的像差波前相关联的第一核集合(301)和第二核集合(302)，和(ii)待经由所述图案形成设备而被印制于衬底上的设计布局(303)；和经由使用所述设计布局、所述第一核集合、和所述第二核集合的过程模拟，确定P(303)与所述像差波前相关联的像差灵敏度映射，所述像差灵敏度映射指示所述设计布局的一个或更多个部分对于单独像差以及在不同像差之间的交互作用的灵敏程度；以及基于所述像差灵敏度映射，确定P(305)与相较于所述设计布局的其它部分具有相对高灵敏度的所述设计布局相关联的所述PWLP(315)。
基本信息
专利标题 ：
确定图案的像差灵敏度的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341742A
申请号 ：
CN202080062062.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘晶晶徐端孚彭星月
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN202080062062.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200821
申请日 : 20200821
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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