异质结双极型晶体管及其制作方法
授权
摘要

本申请提供一种异质结双极型晶体管的制作方法,该制作方法可以在不更改既有的HBT制程的基础上,在制作绝缘区域上方的第二金属氮化物层的同时,制作位于非绝缘区域上的第一金属氮化物层,且制作形成的第三金属层与第一金属氮化物层材料不同。该制作方法可以在不需要增设光罩和光刻工序的基础上得到具有两个不同开启电压的肖特基二极管的HBT,可达到减少工序、提高效率、降低成本的效果。此外,本申请还提供一种异质结双极型晶体管,该HBT可具有两个肖特基二极管,可以选择不同的开启电压,以适配不同的电路需求,增加了HBT的适配性。

基本信息
专利标题 :
异质结双极型晶体管及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113066723A
申请号 :
CN202110294738.3
公开(公告)日 :
2021-07-02
申请日 :
2021-03-19
授权号 :
CN113066723B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
黄治浩蔡文必郭佳衢魏鸿基
申请人 :
厦门市三安集成电路有限公司
申请人地址 :
福建省厦门市同安区洪塘镇民安大道753-799号
代理机构 :
北京超成律师事务所
代理人 :
裴素英
优先权 :
CN202110294738.3
主分类号 :
H01L21/331
IPC分类号 :
H01L21/331  H01L29/73  H01L29/737  H01L29/47  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18
器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
H01L21/328
制造双极型器件,例如二极管、晶体管、晶闸管的台阶式工艺
H01L21/33
包括3个或更多电极的器件
H01L21/331
晶体管
法律状态
2022-06-07 :
授权
2021-07-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/331
申请日 : 20210319
2021-07-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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