面曝光光斑光强匀化方法及其应用
授权
摘要
本发明公开了面曝光光斑光强匀化方法及其应用,匀化方法包括以下步骤:S1、在面曝光切片分层软件中对stl模型进行切片处理获得切片图像,并对切片图像进行灰度处理,生成二值灰度图像;S2、生成高斯补偿图像,获得参数可调的高斯晕影,所述参数包括高斯峰值和高斯半径;S3、将步骤S1获得的二值灰度图像与步骤S2获得的高斯晕影进行叠加计算,生成含高斯补偿的切片图案;S4、将含高斯补偿的切片图案加载至液晶空间光调制器驱动设备,开启激光生成并检测面状光斑:如果光斑不符合要求,则修改高斯晕影的参数,重复步骤S2‑S4,直至光斑符合要求。本发明解决了金属面曝光增材制造过程中光斑光强不均匀的问题。
基本信息
专利标题 :
面曝光光斑光强匀化方法及其应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113096040A
申请号 :
CN202110377589.7
公开(公告)日 :
2021-07-09
申请日 :
2021-04-08
授权号 :
CN113096040B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
王晨光沈显峰王国伟秦煜杨家林张文康王开甲朱京玺黄姝珂
申请人 :
中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请人地址 :
四川省绵阳市绵山路64号
代理机构 :
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
唐邦英
优先权 :
CN202110377589.7
主分类号 :
G06T5/00
IPC分类号 :
G06T5/00 G06K9/38 G02B27/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T5/00
图像的增强或复原
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-07-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 5/00
申请日 : 20210408
申请日 : 20210408
2021-07-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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