一种液相法生长碳化硅晶体的装置及方法
授权
摘要
本发明涉及一种液相法生长碳化硅晶体的装置及方法。所述装置包括:用于容纳Si合金助溶液的坩埚和用于固定碳化硅籽晶的籽晶杆;所述装置还包括液面高度保持装置,液面高度保持装置包括液面保持圆环和用于推动液面保持圆环下降至Si合金助溶液中的推动装置。所述方法为:将包含有Si和金属单质的生长原料熔化成Si合金助溶液;使碳化硅籽晶下降并与助溶液相接触进行碳化硅晶体的生长;在碳化硅晶体的生长过程中,通过推动装置推动液面保持圆环下降至Si合金助溶液中以保持Si合金助溶液的液面高度不变。本发明可使得碳化硅晶体生长过程中液面高度不变且温场保持恒定,还可以保持助溶液成分的稳定以及提高生成的碳化硅晶体的厚度。
基本信息
专利标题 :
一种液相法生长碳化硅晶体的装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113718337A
申请号 :
CN202111030992.9
公开(公告)日 :
2021-11-30
申请日 :
2021-09-03
授权号 :
CN113718337B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
张泽盛
申请人 :
北京晶格领域半导体有限公司
申请人地址 :
北京市顺义区中关村科技园区顺义区临空二路1号
代理机构 :
北京格允知识产权代理有限公司
代理人 :
刘晓
优先权 :
CN202111030992.9
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36 C30B9/10
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-12-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/36
申请日 : 20210903
申请日 : 20210903
2021-11-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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