一种碳化硅晶体生长装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种碳化硅晶体生长装置,包括保温层、第一坩埚、第二盖体、第二坩埚、支撑结构和加热结构。保温层的顶部开有喇叭口。第一坩埚包括第一坩埚本体和安装于第一坩埚本体上端的第一盖体。第二盖体与第一坩埚的内底面之间形成用以容纳碳化硅源的第一腔体,第二盖体为多孔石墨材质。第二坩埚内形成用以容纳碳化硅源的第二腔体,第二坩埚为多孔石墨材质。第二坩埚位于第二盖体上侧。支撑结构位于第二盖体与第二坩埚之间,以支撑第二坩埚。与现有技术相比,本实用新型通过设置高度不同的第一腔体和第二腔体,并在不同的长晶时期选择不同的温度分布,能够增加生长原料的装料量,延长长晶时间,增加晶锭厚度。

基本信息
专利标题 :
一种碳化硅晶体生长装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122817775.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-17
授权号 :
CN216274462U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
杨弥珺赵新田
申请人 :
宁波合盛新材料有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市慈溪市周巷镇环城南路304号
代理机构 :
北京高沃律师事务所
代理人 :
李胜强
优先权 :
CN202122817775.6
主分类号 :
C30B23/02
IPC分类号 :
C30B23/02  C30B23/06  C30B29/36  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B23/00
冷凝气化物或材料挥发法的单晶生长
C30B23/02
外延层生长
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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