一种碳化硅晶体生长装置及碳化硅晶体生长方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种碳化硅晶体生长装置及碳化硅晶体生长方法,该碳化硅晶体生长装置包括壳体、石墨坩埚、籽晶组件和加热件。壳体限定出容纳腔,石墨坩埚设在容纳腔内,石墨坩埚用于容纳助溶剂溶液,籽晶组件沿竖直方向可升降配合在壳体上,籽晶组件的一端伸入石墨坩埚内,籽晶组件用于承载生长的碳化硅晶体,加热件位于石墨坩埚的径向外侧:加热件和石墨坩埚中的至少一个沿竖直方向可升降。该碳化硅晶体生长装置,在生长过程中能够维持助溶剂溶液的液面相对于加热件的位置不变,维持助溶剂液面下方的温度梯度恒定,从而增加结晶的稳定性和一致性。
基本信息
专利标题 :
一种碳化硅晶体生长装置及碳化硅晶体生长方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481293A
申请号 :
CN202210102307.7
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭超母凤文
申请人 :
北京青禾晶元半导体科技有限责任公司
申请人地址 :
北京市海淀区花园北路25号小关(厂南区)4号楼1层146
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
王士强
优先权 :
CN202210102307.7
主分类号 :
C30B15/00
IPC分类号 :
C30B15/00 C30B15/20 C30B15/10 C30B15/14 C30B27/02 C30B29/36
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 15/00
申请日 : 20220127
申请日 : 20220127
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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