一种碳化硅晶体生长的控制方法及装置
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种碳化硅晶体生长的控制方法及装置,其属于晶体生长技术领域,碳化硅晶体生长的控制方法包括先控制籽晶靠近助熔剂移动,并浸入助熔剂,直至称重机构的测量值变化至第一设定值;控制所述籽晶远离所述助熔剂移动,直至所述称重机构的测量值由所述第一设定值增大至第二设定值;根据所述称重机构的测量值的变化计算生长的碳化硅晶体的生长直径;根据所述碳化硅晶体的生长直径调节所述籽晶远离所述助熔剂移动的速度。本发明能够根据碳化硅晶体的生长情况控制籽晶的移动速度,降低籽晶移动过快或过慢的几率,进而保证生长的碳化硅晶体的品质。
基本信息
专利标题 :
一种碳化硅晶体生长的控制方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481318A
申请号 :
CN202210131936.2
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭超母凤文
申请人 :
北京青禾晶元半导体科技有限责任公司
申请人地址 :
北京市海淀区花园北路25号小关(厂南区)4号楼1层146
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
黄建祥
优先权 :
CN202210131936.2
主分类号 :
C30B27/02
IPC分类号 :
C30B27/02 C30B29/36
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B27/00
保护流体下的单晶生长
C30B27/02
自熔融液的提拉法
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 27/02
申请日 : 20220214
申请日 : 20220214
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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