成膜装置以及脚手架单元
公开
摘要
本发明提供提高维护时的作业效率的成膜装置以及脚手架单元。一边搬送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置具备：搬送单元，搬送基板；以及成膜源单元，包括成膜源，且能够在搬送单元的下方的第一位置与相对于第一位置在横向上位移了的第二位置之间移动。成膜装置具备脚手架单元，该脚手架单元能够与成膜源单元一起移动，且包括用于访问成膜源单元的脚手架。在成膜源单元位于第二位置的状态下，脚手架能够在收纳于成膜源单元的收纳状态与从成膜源单元展开的展开状态之间位移。
基本信息
专利标题 ：
成膜装置以及脚手架单元
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574832A
申请号 ：
CN202111373132.5
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
涩谷孝史加势翔也佐藤功康
申请人 ：
佳能特机株式会社
申请人地址 ：
日本新泻县
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
刘杨
优先权 ：
CN202111373132.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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