成膜装置及脚手架单元
公开
摘要
本发明提供一种提高维护时的作业效率的成膜装置及脚手架单元。一边输送基板一边对基板进行成膜的直列式的成膜装置具备：输送单元，其对基板进行输送；以及成膜源单元，其包括成膜源，能够在输送单元的下方的第1位置和相对于第1位置在横向上位移的第2位置之间移动。成膜装置具备脚手架单元，所述脚手架单元随着成膜源单元从第1位置向第2位置移动，在输送单元的下方展开脚手架。
基本信息
专利标题 ：
成膜装置及脚手架单元
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574816A
申请号 ：
CN202111417147.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
涩谷孝史加势翔也佐藤功康泷田裕一
申请人 ：
佳能特机株式会社
申请人地址 ：
日本新泻县
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
韩卉
优先权 ：
CN202111417147.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12 C23C14/08 C23C14/14 C23C14/54 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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