本发明公开了一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，涉及防镀膜偏移技术领域，用于解决现有技术中卷膜式镀膜设备对带状材料进行镀膜时，带状材料会出现偏移的现象，从而极大的影响了带状材料镀膜质量的问题，本发明包括第一支架和控制器，所述第一支架上安装有旋转机构，所述旋转机构上安装有第二支架，所述第二支架上安装有滚筒组件，所述第二支架的两端还均安装有光栅，所述光栅、旋转机构均与控制器电性连接。本发明通过光栅检测带状材料的偏转角度，再将偏转角度反馈给旋转机构，旋转机构再通过光栅反馈的数据做出相应的转动，最终将带状材料旋转到合适的角度，从而可以减少带状材料的偏移现象，进而可以极大提高带状材料的镀膜质量。