一种卷绕式真空磁控溅射镀膜设备中的传送辊
授权
摘要
本实用新型公开了一种卷绕式真空磁控溅射镀膜设备中的传送辊，包括、安装板、传送辊、安装座、连接板、连接杆、刮板，安装座长度方向两端各水平滑动连接有调节座，两个调节座设有安装支架，两个安装支架连接有纠偏轮，两个调节座由调节机构驱动其相对移动，进而使两个纠偏轮的横向间距进行调节。本实用新型的有益效果：玻璃在经由传送辊进行输送时，通过刮板对玻璃表面上的溅射残渣进行刮除，进而取代人工方式对玻璃表面的溅射残渣进行处理，降低了工人的劳动强度，另外设置了纠偏轮，通过两个纠偏轮对玻璃进行限位，使得玻璃在经由两个纠偏轮的导向限位作用下，而保证在传送辊上的位置精度，降低了后序加工设备的加工质量不稳定现象。
基本信息
专利标题 ：
一种卷绕式真空磁控溅射镀膜设备中的传送辊
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022251488.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-10
授权号 ：
CN213266685U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
朱俊梅
申请人 ：
朱俊梅
申请人地址 ：
广东省惠州市博罗县石坝镇蓝田村委会肖洞小组125号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022251488.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56 C03C17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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