聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用，聚合物的结构为：其中：其中：R1选自
或单键；R2选自‑H、C1～C10卤代烃基、C6～C10芳基或取代或未被取代的C1～C10直链或环状杂烷基；R4选自单键、‑O‑、C1～C10卤代烃、C6～C10芳基或取代或未被取代的C1～C10直链或环状杂烷基；R3分别独立地选自‑H或‑OH；n为10～110的整数；使用上述聚合物在制备负性光刻胶时会大幅度提高光刻胶的耐高温性，含有此聚合物光刻胶的分解温度高达250℃，可提高全波段光具有良好的目标线宽成像，可有效获得负性光刻图形以及提高光敏化效果。
基本信息
专利标题 ：
聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488693A
申请号 ：
CN202111597353.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王晓伟
申请人 ：
苏州理硕科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城12幢401-88
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
林晓欣
优先权 ：
CN202111597353.0
主分类号 ：
G03F7/037
IPC分类号 ：
G03F7/037 G03F7/004 G03F7/16 G03F7/40 C08G69/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
G03F7/032
含有黏结剂的
G03F7/037
黏结剂是聚酰胺或聚酰亚胺
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/037
申请日 : 20211224
申请日 : 20211224
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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