一种具有抗干扰结构的离子镀膜多弧电源
授权
摘要

本实用新型公开了一种具有抗干扰结构的离子镀膜多弧电源,包括电源主体和抗干扰组件,所述电源主体的外壁固定安装有用于多弧电源滑动组装的滑动组件,且滑动组件包括限位块、防滑层和滑块,所述限位块的内壁贴合有防滑层,且防滑层的端部滑动连接有滑块,用于多弧电源抗干扰性能的所述抗干扰组件设置于滑动组件的外壁,所述抗干扰组件包括第一导磁板、紧固螺丝、第一承接板、第二承接板和第二导磁板,且第一导磁板的端部焊接连接有第一承接板。该具有抗干扰结构的离子镀膜多弧电源将半圆柱形结构的滑块灵活滑动于限位块端部粘接的防滑层端部,以此可以实现电源主体在抗干扰组件内部的灵活滑动安装,提高便捷性。

基本信息
专利标题 :
一种具有抗干扰结构的离子镀膜多弧电源
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122401156.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-03
授权号 :
CN216192665U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
吕忠毅梁寅平康凯潘国辉崔世博吕世凡
申请人 :
大连派立特电子科技发展有限公司
申请人地址 :
辽宁省大连市沙河口区昌平街61号776室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122401156.9
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  H05K5/02  H05K7/20  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332