本实用新型公开了硅片清洗设备技术领域的一种带有下料功能的全自动硅片清洗机，包括：设备本体与罩体，所述罩体安装在设备本体的顶部壁上，所述罩体内腔顶部安装有清洗机构，所述设备本体内腔顶部安装有传输机构，所述设备本体顶部壁开设有集液槽，所述排液通道内腔右侧顶部安装有挡板，且挡板为排渣通道的上方，且挡板左端倾斜向上设置，装置中通过挡板对下落的清洁液和残片进行阻拦，使残片在挡板上方沉积，清洁液会从挡板上方溢出落到集液箱中，由挡板对残片进行收放，使残片实际下落的距离减小，减小残片下落时受到的冲击力，使残片发生破碎的几率降低，使残片进入到集液箱中的几率降低。