一种半导体清洗溶液监测装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体清洗溶液监测装置，其技术方案要点是：包括监测外壳、壳盖，加热层的内侧上固定设置有清洁槽，微型马达的传动轴穿过加热层和清洁槽与转盘的下方固定连接，转盘的上方固定设置有多个卡槽，清洁槽的内侧底部固定设置有温度传感器，清洁槽的内壁上固定设置有液体传感器，监测外壳的前面上固定设置有控制面板，监测外壳、清洁槽的对应位置上固定设置有进料口、出料口；本实用新型解决了监测装置的结构较为简单，监测装置对清洁溶液的温度、浓度不易进行调节的问题和清洁溶液对半导体的清洁效果不佳的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体清洗溶液监测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122687745.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-04
授权号 ：
CN216646406U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
陈燏
申请人 ：
无锡市安晏克半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区观山路5号金投集成电路产业园B区103号
代理机构 ：
北京索睿邦知识产权代理有限公司
代理人 ：
曹蓓蓓
优先权 ：
CN202122687745.8
主分类号 ：
G01N33/00
IPC分类号 ：
G01N33/00 G01K13/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/00
利用不包括在G01N1/00至G01N31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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