一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置，包括刻蚀机主体结构，所述刻蚀机主体结构的内部固定连接有监控结构，所述刻蚀机主体结构的外部固定连接有警报结构；所述刻蚀机主体结构包括刻蚀机本体，所述刻蚀机本体的外部固定连接有支撑块；所述监控结构包括支撑架，所述支撑架的外部固定连接有监控摄像头。该ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置，通过设置支撑架、监控摄像头和显示屏，方便监测机器工作时的状态，通过设置温度传感器，方便检测机器内部的温度变化通过设置控制器和温度警报灯，方便该等离子刻蚀机内部温度出现变化时发出警报，通过设置固定块、警报器和警报灯，方便该等离子刻蚀机工作时发生失误时而发出警报。
基本信息
专利标题 ：
一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122986870.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-01
授权号 ：
CN216563007U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
王硕
申请人 ：
苏州光筑激光设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区东旺路8号6幢1楼107室
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邵娟
优先权 ：
CN202122986870.9
主分类号 ：
H01J37/02
IPC分类号 ：
H01J37/02 H01J37/305 H04N7/18 G08B21/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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