一种终端结构、制作方法以及功率器件
实质审查的生效
摘要

本申请提供了一种终端结构、制作方法以及功率器件,包括:第一外延层;位于第一外延层一侧的掩埋层;贯穿掩埋层的第一掺杂区,第一掺杂区与掩埋层的掺杂类型相反;位于掩埋层背离第一外延层一侧的第二外延层,第二外延层内具有主结扩展区以及场限环;位于第二外延层背离所述掩埋层一侧的氧化层;其中,第二外延层和第一外延层均与掩埋层的掺杂类型相反;在第一方向上,场限环位于主结扩展区与第一掺杂区之间,第一方向垂直于第一外延层指向第二外延层的方向。本发明技术方案提供的终端结构、制作方法以及功率器件,提高了终端结构的耐压能力,进一步提高功率器件的可靠性和稳定性。

基本信息
专利标题 :
一种终端结构、制作方法以及功率器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114284348A
申请号 :
CN202210085312.1
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2022-01-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
袁俊丁琪超
申请人 :
湖北九峰山实验室
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖高新技术开发区未来科技城B4-5楼
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
姚璐华
优先权 :
CN202210085312.1
主分类号 :
H01L29/06
IPC分类号 :
H01L29/06  H01L21/04  
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/06
申请日 : 20220125
2022-04-15 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 29/06
变更事项 : 发明人
变更前 : 袁俊 丁琪超
变更后 : 袁俊
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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