具有衬底上复合半导体层的氮化镓异质结场效应晶体管
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种具有衬底上复合半导体层的氮化镓异质结场效应晶体管,从下至上依次包括:衬底、氮化镓缓冲层、氮化镓沟道层、铝镓氮势垒层,铝镓氮势垒层上方设有源极、漏极、P型氮化镓层、栅极,器件上表面源极与栅极之间、以及栅极与漏极之间都覆盖有一层钝化层;在氮化镓缓冲层与衬底之间设有一层由P型掺杂区域和N型掺杂区域横向排列而成的复合半导体结构层,通过在氮化镓缓冲层与衬底之间引入P型掺杂区域和N型掺杂区域组成的复合结构,可以有效降低缓冲层的泄漏电流和改善沟道与缓冲层的电场分布,从而提高器件的击穿电压,同时不会增加器件的导通电阻。

基本信息
专利标题 :
具有衬底上复合半导体层的氮化镓异质结场效应晶体管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114447102A
申请号 :
CN202210085762.0
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杜江锋张辉张波涛雷俊辉赵亚鹏
申请人 :
电子科技大学
申请人地址 :
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
代理机构 :
成都点睛专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
敖欢
优先权 :
CN202210085762.0
主分类号 :
H01L29/06
IPC分类号 :
H01L29/06  H01L29/778  
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/06
申请日 : 20220125
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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