阵列基板及其制作方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法，阵列基板包括：基底；形成在基底上方的金属遮光部；覆盖在金属遮光部上的第一绝缘层；形成在第一绝缘层上的栅极和扫描线，栅极与扫描线导电连接；覆盖在栅极和扫描线上的第二绝缘层；形成在第二绝缘层上的有源层，有源层在基底上的正投影位于栅极在基底上的正投影内，金属遮光部在基底上的正投影环绕着有源层在基底上的正投影。本发明的阵列基板改善了TFT因光生漏电导致误充电的现象。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114497083A
申请号 ：
CN202210109144.5
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨珊珊
申请人 ：
昆山龙腾光电股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山开发区龙腾路1号
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨波
优先权 ：
CN202210109144.5
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L29/786 H01L21/77
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20220128
申请日 : 20220128
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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