阵列基板及其制作方法
实质审查的生效
摘要

一种阵列基板及其制作方法,阵列基板包括:基底;形成在基底上的扫描线和栅极,栅极与扫描线导电连接;覆盖在扫描线和栅极上的第一绝缘层;形成在第一绝缘层上的漏极、像素电极、源极和数据线,其中像素电极与漏极由第一透明导电层经过图案化处理而形成且两者导电连接,数据线与源极由第二金属层经过图案化处理而形成且两者导电连接,源极与漏极间隔设置形成沟道区;至少覆盖在漏极、沟道区和源极上的金属氧化物半导体层,金属氧化物半导体层填入沟道区并与漏极和源极导电连接;覆盖在金属氧化物半导体层上的绝缘遮光层,绝缘遮光层与金属氧化物半导体层上下重叠设置。本发明的阵列基板及其制作方法不仅节约了成本,还减少了光生漏电现象。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114512500A
申请号 :
CN202210109200.5
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2022-01-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
钟德镇苏子芳张军
申请人 :
昆山龙腾光电股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山开发区龙腾路1号
代理机构 :
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 :
杨波
优先权 :
CN202210109200.5
主分类号 :
H01L27/12
IPC分类号 :
H01L27/12  H01L29/417  H01L29/786  H01L21/34  H01L21/84  
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20220128
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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