缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质
授权
摘要
本发明属于晶圆缺陷检测领域，公开了一种缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质。该方法包括：获取待检测晶圆的光致发光检测结果；根据所述光致发光检测结果和预设热力图模型生成所述待检测晶圆对应的缺陷热力图，所述预设热力图模型基于电致发光缺陷标记后的光致发光检测结果样本构建；根据所述缺陷热力图确定所述待检测晶圆的缺陷检测结果。由于本发明是根据光致发光检测结果通过预设热力图模型生成待检测晶圆对应的缺陷热力图，根据缺陷热力图确定待检测晶圆的检测结果。相对于现有的通过晶圆的光致发光检测结果和电致发光检测结果确定晶圆的缺陷检测结果的方式，本发明上述方式能够提高晶圆的检测效率和检测精度。
基本信息
专利标题 ：
缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114235759A
申请号 ：
CN202210174486.5
公开（公告）日 ：
2022-03-25
申请日 ：
2022-02-25
授权号 ：
CN114235759B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
何兆铭毕海段江伟汪伟杨万里
申请人 ：
季华实验室
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
熊海武
优先权 ：
CN202210174486.5
主分类号 ：
G01N21/63
IPC分类号 ：
G01N21/63 G01N21/01 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2022-04-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/63
申请日 : 20220225
申请日 : 20220225
2022-03-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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