一种用于改善大直径单晶硅生长固液界面温度梯度的方法
公开
摘要

本发明涉及一种用于改善大直径单晶硅生长固液界面温度梯度的方法,本发明有效解决了现有针对大直径单晶硅生长时硅熔体径向温度梯度均匀性较低且晶棒内部热量无法较好的向外界释放的问题;解决的技术方案包括:本方案充分利用针对大直径单晶硅生长时所需的大尺寸热场的空间,将外热屏的倾斜角度减小,增大内、外热屏间的保温毡厚度区域,减少硅熔体对晶棒的热辐射,增大晶棒结晶时其内部热量的释放,另一方面,通过改变外热屏底部结构,使其具有一个反射面,从而改善传统的加热方式造成的油边缘箱中心产生热辐射损耗的情况,提高硅熔体中心的温度。

基本信息
专利标题 :
一种用于改善大直径单晶硅生长固液界面温度梯度的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114561692A
申请号 :
CN202210375385.4
公开(公告)日 :
2022-05-31
申请日 :
2022-04-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
马武祥令狐铁兵吴彦国胡晓亮李战国
申请人 :
麦斯克电子材料股份有限公司
申请人地址 :
河南省洛阳市高新技术产业开发区滨河北路99号
代理机构 :
郑州豫鼎知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
轩文君
优先权 :
CN202210375385.4
主分类号 :
C30B15/20
IPC分类号 :
C30B15/20  C30B29/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/20
控制或调节
法律状态
2022-05-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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