一种PCB板曝光设备
公开
摘要
本发明提供了一种PCB板曝光设备,属于PCB板曝光技术领域,解决了现有技术曝光效果不佳的问题。本发明包括机座,机座上设有底板、可驱动底板沿Y轴运动的Y轴驱动装置、可用于曝光PCB板正面的第一曝光装置和可用于曝光PCB板反面的第二曝光装置,底板上分别设有用于放置PCB板的支撑结构、可夹紧或松开PCB板的夹紧装置、可驱动支撑结构在X轴方向移动以避免投射光斑被挡的X轴驱动装置,支撑结构上设有可供投射光斑通过的投射过道。本发明通过在支撑结构上开设投射过道,便于第二曝光装置对PCB板曝光,通过X轴驱动装置驱动支撑结构沿X轴方向移动来实现投射过道相对PCB板移动,可完成对PCB板反面的全面曝光,并依靠夹紧装置的夹紧定位,显著提升曝光效果。
基本信息
专利标题 :
一种PCB板曝光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114563931A
申请号 :
CN202210448989.7
公开(公告)日 :
2022-05-31
申请日 :
2022-04-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
廖平强张华
申请人 :
杭州新诺微电子有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市萧山区南阳街道岩峰村(自然村)772号-28
代理机构 :
浙江永鼎律师事务所
代理人 :
陆永强
优先权 :
CN202210448989.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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