一种PCB板曝光设备
公开
摘要
本发明提供了一种PCB板曝光设备，属于PCB板曝光技术领域，解决了现有技术曝光效果不佳的问题。本发明包括机座，机座上设有底板、可驱动底板沿Y轴运动的Y轴驱动装置、可用于曝光PCB板正面的第一曝光装置和可用于曝光PCB板反面的第二曝光装置，底板上分别设有用于放置PCB板的支撑结构、可夹紧或松开PCB板的夹紧装置、可驱动支撑结构在X轴方向移动以避免投射光斑被挡的X轴驱动装置，支撑结构上设有可供投射光斑通过的投射过道。本发明通过在支撑结构上开设投射过道，便于第二曝光装置对PCB板曝光，通过X轴驱动装置驱动支撑结构沿X轴方向移动来实现投射过道相对PCB板移动，可完成对PCB板反面的全面曝光，并依靠夹紧装置的夹紧定位，显著提升曝光效果。
基本信息
专利标题 ：
一种PCB板曝光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563931A
申请号 ：
CN202210448989.7
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-04-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
廖平强张华
申请人 ：
杭州新诺微电子有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区南阳街道岩峰村(自然村)772号-28
代理机构 ：
浙江永鼎律师事务所
代理人 ：
陆永强
优先权 ：
CN202210448989.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
