本发明提供一种用于薄膜形成的分子供应源，利用从单个蒸发源排出的分子、即使在相对宽的膜形成表面(9)上也能够形成具有高均匀性的薄膜，其具有设置成多个的导向通路(4a)、(4b)和(4c)，其中通过那些导向通路(4a)、(4b)和(4c)来控制蒸气分子的流速和定向特性；由此改善在衬底(8)的膜形成表面(9)上所形成的膜厚度的分布。利用这，膜形成材料的必要量能达到衬底(8)的膜形成表面(9)上的必要位置，因此在不用旋转和/或移动膜形成表面(9)的情况下，能够减少形成在膜形成表面(9)上的薄膜的膜厚度上的离差，并由此能够形成具有均匀厚度的薄膜。此外，还能够随意但到一定程度控制在膜形成表面(9)上的任意位置处的膜厚度。